光刻膠HMDS烘箱  HMDS疏水處理烘箱研發(fā)背景

       集成電路光刻工藝中常使用HMDS對晶圓襯底進(jìn)行黏附處理，來提高光刻膠與襯底的黏附性,HMDS中文名六甲基二硅氮烷（Si(CH3)3）2NH，行業(yè)所要求純度大于99.7%。

HMDS黏附機(jī)  HMDS烘箱  HMDS疏水處理烘箱作用

  光刻膠HMDS烘箱  HMDS疏水處理烘箱實(shí)用性

       在光刻中，光刻膠的黏附效果受到光刻涂層，襯底材料，以及光刻工藝三方面的影響。HMDS的黏附處理不只是對硅基襯底有效。也用于其他襯底，諸如多晶硅，石英，太陽能電池片、金屬、貴金屬、藍(lán)寶石、SiC(碳化硅)、磷化銦、GaN(氮化鎵)、ZnO（氧化鋅）、GaO（氧化鎵）、金剛石等第三代半導(dǎo)體材料。

HMDS烘箱兼容2~12寸晶圓及碎片、方片等。

設(shè)備名稱：HMDS烘箱

設(shè)備型號： JS-HMDS90

內(nèi)腔尺寸：450×450×450、350×350×350（mm）可定制

材質(zhì)：外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑、304不銹鋼，內(nèi)箱采用316L級不銹鋼

工藝溫度：110-160℃

真空度：≤1torr

工藝運(yùn)行：自動(dòng)運(yùn)行